金属间化合物MoSi_2的晶界侵蚀方法研究

摘要

对两种MoSi2材料试样进行了侵蚀试验。利用XJG204型金相显微镜和扫描电子显微镜,研究了MoSi2侵蚀后的显微组织,并对其侵蚀结果进行了探讨。研究发现,MoSi2基材料具有晶间腐蚀敏感性,采用HF+HNO3+H2O作为其晶界侵蚀剂是可行的。