0.35μm分步重复投影光刻关键单元技术研究通过验收

摘要

@@ 今年4月18日,中国科学院光电技术研究所承担的中国科学院"九五"重大科研项目"微电子专用设备"的0.35μm分频重复投影光刻关键单元技术研究"课题,在北京顺利通过中国科学院主持的专家评审验收.由清华大学、信息产业部708厂、山东工业大学、北京大学、信息产业部700厂、中国科学院微电子中心、中国科学院半导体所及中国科学院高技术与发展局等单位的九位同行专家组成的评审组,听取了项目负责人姚汉民所作的项目研究总结报告及课题组的"0.35μm分步重复投影光刻关键单元技术研究"课题研制报告,测试组的测试报告,资料审查组的资料审查报告.经过认真讨论,一致认为: