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分步重复投影光刻机同轴对准数据处理

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介绍了0.8～1.0μm分步重复投影光刻机双光路光栅衍射同轴对准系统的构成及原理,详细讨论了对准数据的软件处理和计算方法,并给出实际测试结果.

著录项

来源
《微细加工技术》 |2000年第1期|41-44|共4页
作者
吕晓真; 田宏;
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作者单位

中国科学院光电技术研究所,成都610209;

中国科学院光电技术研究所,成都610209;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光刻、掩膜;
关键词
分步重复投影光刻机; 同轴对准; 数据处理;

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