离子束混合增强陶瓷基体上金属薄膜附着力的研究

摘要

研究了１１０ｋｅＶ Ｎ＾＋轰击Ｔｉ／Ｓｉ３Ｎ４和Ａｇ／Ａｌ２Ｏ３后界面间所发生的变化，结果表明，离子束混合技术在幅度提高了陶瓷基体上金属膜的附着力，在界面处发生了原子级混合，这为解释附着力的“增强效应”提供了科学依据；金属薄膜的沉积及后续的离子轰击明显地减少了陶瓷裂纹的形成。