首页> 中文期刊> 《核技术》 >H+辐照对不锈钢基体上涂覆W膜的微观研究

H+辐照对不锈钢基体上涂覆W膜的微观研究

             

摘要

对奥氏体不锈钢基体上采用离子束混合技术进行不同厚度的钨膜沉积,沉积后的试样进行了H+注入前后的XRD和SEM微观分析,研究了H+辐照对W膜的晶体结构和形貌的影响.结果表明,沉积的W膜基本上是非晶的,还出现了由于污染造成的钨的氧化物.氢离子的辐照模拟结果表明,少量晶化的W向非晶化转变,污染的氧化物被择优溅射掉.H+轰击对W膜表面形貌的影响不大,它仍然致密、均匀、完整且无明显损伤.

著录项

  • 来源
    《核技术》 |2002年第4期|267-271|共5页
  • 作者单位

    教育部辐射物理及技术重点实验室,四川大学原子核科学技术研究所,成都,610064;

    教育部辐射物理及技术重点实验室,四川大学原子核科学技术研究所,成都,610064;

    教育部辐射物理及技术重点实验室,四川大学原子核科学技术研究所,成都,610064;

    教育部辐射物理及技术重点实验室,四川大学原子核科学技术研究所,成都,610064;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 薄膜测量与分析;
  • 关键词

    离子束混合; W薄膜; H+辐照;

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号