衬底温度和氧分压对ZnO：Al薄膜性能的影响研究术

摘要

以掺杂质量数为2％的Al2O3：ZnO为靶材，用激光脉冲沉积法，通过改变氧压和衬底温度调整薄膜的性能，制备得到相对优质的ZnO：Al薄膜，采用x射线衍射、紫外-可见分光光度计和霍尔效应测试仪等表征其物相、光学和电学性能，最终得到电阻率为1．27×10-3Ω／cm-3、平均光透过率超过80％的透明导电薄膜。