首页> 中文期刊>现代应用物理 >一种28nm工艺下抗单粒子翻转SRAM的12T存储单元设计

一种28nm工艺下抗单粒子翻转SRAM的12T存储单元设计

     

摘要

提出一种12T结构的抗单粒子翻转和多节点翻转的SRAM存储单元,通过功能和电荷注入仿真研究该单元结构的读写性能和抗单粒子翻转的能力。研究结果表明:提出的PSQ-12T存储单元的面积为0.95μm^(2);数据保持、读和写的静态噪声容限分别为0.37,0.22,0.61 V;静态功耗为1.09 nW;当工作频率为500 MHz时,动态功耗为21.6μW;发生单节点“1-0”翻转的临界电荷大于500 fC;同一势阱和不同势阱中特定的多节点产生翻转的临界电荷也都大于500 fC。

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