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复杂微光刻图形版图设计系统

         

摘要

介绍了一种自主开发的复杂微光刻图形版图绘制系统.该系统能根据用户的要求自动成组地批处理各种圆环、螺旋线、椭圆环、扇形、条形码等图形,以及根据用户输入的任意表达式来生成特殊形状图形,同时它具有方便的图形形态处理功能,包括图形任意角度的旋转、旋转拷贝功能;重叠图形和回字图形挖空并加辅助线功能;位图格式图形轮廓化处理功能及图形切割、切块功能等.该系统极大地提高了目前集成电路版图设计工具软件绘图功能,使其更能适用于微电子、微光学、微机电系统等微光刻领域的复杂图形设计,是一种实用性很强的软件模块.

著录项

  • 来源
    《微细加工技术》 |2002年第2期|15-18,23|共5页
  • 作者单位

    中科院微电子中心微光刻光掩模实验室,北京,100029;

    中科院微电子中心微光刻光掩模实验室,北京,100029;

    中科院微电子中心微光刻光掩模实验室,北京,100029;

    中科院微电子中心微光刻光掩模实验室,北京,100029;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 光刻、掩膜;
  • 关键词

    版图; 设计; 图形变换;

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