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胡勇; 黄广宇; 陈宝钦; 李友;
中科院微电子中心微光刻光掩模实验室,北京,100029;
版图; 设计; 图形变换;
机译:具有成对着色和自适应多重启动的三图案光刻光刻版图分解
机译:三重图案光刻的版图分解
机译:双图案光刻的版图分解方法
机译:通过基于光刻的简单掩模版图和版图共同优化,可实现卓越的光刻性能
机译:三重图案光刻的版图分解。
机译:三维光刻微图案:探测细胞迁移复杂性的新型工具
机译:基于快速掩模图像投影的基于微立体光刻过程,用于复杂几何形状
机译:aNL(阿贡国家实验室)修订版图形指南
机译:由一个或多个处理器执行的一个或多个指令中的一个或多个指令中的一个,所述处理器执行用于形成光刻掩模版图的方法,用于形成光刻掩模版图的装置以及用于形成光刻掩模版图的方法。包含一个或多个序列的计算机可读介质。
机译:掩模版图创建方法,掩模版图创建设备,光刻掩模制造方法,半导体器件制造方法和计算机可执行程序
机译:建立用于模拟光刻工艺的掩模版图布局数据和定义优化的掩模版图布局数据的过程
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