基于UV-LIGA技术的新型RF MEMS开关

摘要

介绍了一种基于UV-LIGA加工技术的双稳态电磁型RF MEMS开关,该结构由于使用了永磁体单元而使得开关在维持"开"或"关"态时不需要功耗,利用牺牲层UV-LIGA技术实现了开关的微制作.非接触式Wyko NT1100光学轮廓仪的测试表明,制备的开关实现了双稳态驱动功能,驱动脉冲电流50 mA,驱动行程17 μm,响应时间20 μs;开关完成一次驱动姿态转换所需要的功耗不到3 μJ.AGILENT 8722ES型S参数网络分析仪的测试表明,开关在12 GHz时的插入损耗为-0.25 dB,隔离度为-30 dB.