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谢常青;
中国科学院微电子中心三室;
北京100010;
光学光刻; 光学邻近效应; 移相掩模; 光学掩模; 制造技术;
机译:微光学元件的数字掩模制造技术研究
机译:冠状二元瞳孔掩模制造技术的比较研究:基材上的掩模和自由站立的掩模
机译:下一代光刻掩模的光学检查
机译:超分辨率方法用于下一代掩模制造的先进掩模检测光学器件的研究
机译:下一代光刻掩模的比较分析:PREVAIL和SCALPEL技术。
机译:下一代非真空无掩模低温纳米粒子墨水激光数码直接金属图案的大面积软性电子
机译:基于参数化光刻工艺的操作建模的光掩模制造技术
机译:用于有源器件的全蒸发和无掩模制造技术
机译:用于光刻工艺的光学掩模,制造该光学掩模的方法以及使用该光学掩模在基板上制造图案阵列的方法
机译:光学掩模板以及基于光学掩模板的光学掩模基板的制备方法
机译:用于传送光刻掩模的原始结构部分的光学系统,用于成像的投影光学单元,其中光刻掩模的至少一个原始结构部分是可布置的,并且光刻掩模
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