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吕耀坤; 李建国; 朱春梅; 姚继华;
广州机电研究所;
化学气相沉积; 碳氮化钛; 工艺; 设备;
机译:通过改进的化学气相沉积工艺生产的耐磨Ti(C,N)涂层的生产和表征
机译:金属有机化学气相沉积法沉积Pb(Zr,Ti)O_3薄膜的化学计量和相纯度
机译:基于聚类的化学气相沉积工艺设备条件模型
机译:用Ti(NME {Sub} 2){sub} 4(TDMAT),NH {Sub} 3和SIH {Sub} 4的化学气相沉积过程中的气相化学过程中的化学气相化学
机译:激光电离和电子电离在硅烷-氨气混合物热线化学气相沉积工艺中的沉积化学中的应用。
机译:等离子体在Ti上的化学气相沉积二氧化硅:分析表面化学形态和功能性羟基
机译:通过化学气相沉积工艺和物理气相沉积工艺涂有TIC或锡的粘合碳化物的表面残余应力
机译:燃烧化学气相沉积工艺沉积低成本,高质量,高温超导带的研究进展
机译:热线化学气相沉积和等离子体增强化学气相沉积相结合的混合化学气相沉积工艺
机译:化学气相沉积和化学气相沉积的设备(用于CVI / CVD工艺的设备)
机译:化学气相沉积设备,化学气相沉积设备的指南成员以及使用化学气相沉积设备制造薄膜的方法
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