多弧离子镀Ti-W-N多元多层膜的研究

曾鹏; 胡社军; 谢光荣; 黄拿灿; 吴起白

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多弧离子镀Ti-W-N多元多层膜的研究

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采用Ti/W复合靶,用多弧离子镀技术沉积了Ti-W -N多元多层膜,并对其组织结构与性能进行了研究.结果表明:在本试验条件下多元膜的结构形式为(Ti, W)2N,最佳多层膜的结构形式为基体/Ti/TiN/(TiyW1-y )N/(Ti,W)2N,并具有较高的显微硬度和极低的孔隙率,在800 ℃具有很好的抗氧化性能.在沉积过程中存在着多元合金膜层与复合靶的成分离析现象,这与靶材的结构有关.

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来源
《材料科学与工艺》 |2000年第3期|37-40|共4页
作者
曾鹏; 胡社军; 谢光荣; 黄拿灿; 吴起白;
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作者单位

广东工业大学,机械系金属材料研究室,广东,广州,510643;

广东工业大学,机械系金属材料研究室,广东,广州,510643;

广东工业大学,机械系金属材料研究室,广东,广州,510643;

广东工业大学,机械系金属材料研究室,广东,广州,510643;

广东工业大学,机械系金属材料研究室,广东,广州,510643;

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正文语种 chi
中图分类钢;薄膜物理学;
关键词
多弧离子镀; Ti-W-N多元膜; 多层膜; 组织与性能;

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