多弧离子镀

摘要： 目的 探索制备摩擦因数低、硬度高、弹性模量高和耐磨性高的TiAlCN涂层。方法 采用多弧离子镀技术在F690钢表面沉积具有不同碳含量的TiAlCN涂层。通过扫描电镜(SEM)、激光共聚焦显微镜、拉曼光谱仪、透射电子显微镜、X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱仪(XPS)、纳米压痕仪、往复式摩擦磨损仪和台阶仪对涂层的结构、硬度、弹性模量、摩擦磨损性能和磨痕形貌进行分析。结果 碳含量对TiAlCN涂层的结构、硬度和摩擦学性能有比较明显的影响。涂层表面粗糙度会随着涂层中碳含量的增加而逐渐增大。此外,涂层的组成主要为fcc-TiN、fcc-TiC和hcp-AlN。随着涂层中碳含量的增加,涂层的晶粒取向由(111)变化为(200),同时涂层中的非晶含量也逐渐增加,涂层的纳米硬度和弹性模量也随之下降。碳的质量分数为15.57%的TiAlC80N320涂层具有36.21 GPa的硬度和430.15 GPa的弹性模量。在干摩擦条件下,TiAlC80N320涂层具有较低的磨损率,为2.85×10^(-6)mm^(3)/(N·m)。TiAlC160N320涂层具有较低的摩擦因数,但是具有较高的磨损率(4.31×10^(-6)mm^(3)/(N·m))。结论 涂层中碳含量的增加会导致涂层中非晶含量的增加,涂层的硬度、弹性模量和耐磨性会随之降低,涂层的摩擦因数会降低。

摘要： 本文通过从几十微米到几埃的多尺度表征展示了多弧离子镀制备铬涂层的详细结构.经XRD,SEM,FIB,TEM和HRTEM表征,结果显示该涂层是一种多重结构,包括表面上的微米级颗粒、缺陷带钉扎的微米或次微米级液滴、以堆垛层错为晶界的柱状晶、以刃位错和螺型位错为区分的微晶、位错末端的原子畸变以及原子排列无序化的区域.这些结构通过改变涂层的结晶度,影响了晶格常数、表面粗化和FIB溅射裂纹.此外,通过分析HTEM照片,确定了这些堆垛层错和位错的类型.最后,讨论了沉积参数对这些晶粒结构的影响.

摘要： 目的制备高硬度、高耐磨性、自润滑及高热稳定性的AlCrBN/AlCrSiN纳米晶多层复合涂层,探索涂层的微观结构、力学性能、耐磨性能及高温热稳定性能。方法采用多弧离子镀技术在WC-Co硬质合金以及不锈钢基底上,制备AlCrBN/AlCrSiN多层纳米晶复合涂层。采用扫描电子显微镜、X射线衍射、透射电子显微镜、纳米压痕仪等设备,对涂层在不同温度(600~1000°C)下退火前后的表面形貌、微观结构、力学性能、耐磨性能进行系统研究。结果AlCrSiN/AlCrBN涂层为典型的纳米晶复合多层结构,涂层主要由fcc-AlCrN纳米晶镶嵌在非晶的SiNx和BNx中并形成多层结构。涂层具有优异的热稳定性能,其结构能够保持到800°C不发生变化,当温度增加到900°C时,涂层发生调幅分解,形成c-AlN、hcp-AlN和Cr2N等复合结构,在1000°C退火后,涂层结构基本稳定,仍能检测到CrN相。涂层纳米硬度及平均摩擦因数分别为29.15 GPa和0.67。结论AlCrSiN/AlCrBN涂层具有优异的力学性能、耐磨性能及高温热稳定性能,在800°C以下保持稳定,在1000°C退火后仍能保持较高的硬度及良好的耐磨性能,在高速切削刀具中具有良好的应用前景。

摘要： 目的通过多界面结构CrN/CrAlN涂层来提高316不锈钢在海水中的耐腐蚀磨损性能。方法采用多弧离子镀技术在316不锈钢基底表面制备CrAlN单层和CrN/CrAlN多层涂层。利用扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)和X射线衍射仪(XRD)等设备表征涂层的微观结构和相组成;借助纳米压痕仪及划痕仪分别测试涂层的硬度和结合强度;通过往复式摩擦磨损试验机及电化学工作站,实时记录涂层在人工海水环境下摩擦系数和电化学信号的连续变化,并采用扫描电子显微镜对磨痕形貌进行分析,评价CrAlN单层和CrN/CrAlN多层涂层在人工海水环境中的腐蚀磨损特性。结果CrN/CrAlN多层涂层结构致密,层间界面清晰,厚度大约在4.12μm,力学性能优异,其硬度高达37.65 GPa。在海水环境中,摩擦系数随外加电位增加而降低,且当外加电位为0.2 V时,最低摩擦系数在0.29左右。而多层涂层损失量变化规律与之相反,当外加电位为–0.6 V时,其具有最低损失量,大约为0.00086 mm^(3)。相比CrAlN单层涂层,CrN/CrAlN多层涂层的腐蚀电流密度降低,损失量显著减小。结论CrN/CrAlN多层涂层具有致密的多界面结构,在海水环境中的耐腐蚀磨损性能更为优异。主要失效机制为磨粒磨损、塑性变形和腐蚀磨损。

摘要： 目的提高H13模具钢的表面性能,延长模具使用寿命。方法采用多弧离子镀技术,以氮气作为反应气体,通过改变氮气流量的方法制备出不同原子含量的CrAlN薄膜,研究氮氩比对CrAlN薄膜表面形貌、组织结构、硬度、结合力、抗高温氧化性及耐腐蚀性的影响。结果随着氮氩比增加,CrAlN薄膜表面大颗粒数量减少,大颗粒尺寸变小,薄膜表面逐渐均匀致密,孔隙率降低,表面粗糙度下降。CrN(200)衍射峰逐渐增强,六方相AlN(101)逐渐消失,硬度、结合力、抗高温氧化性及耐腐蚀性先升高、后降低。在氮氩比为8∶2时,CrAlN薄膜性能最优,硬度达到最大值,为2400HV,膜基结合力达到最大值,约29 N,抗高温氧化性能及耐腐蚀性能达到最佳。结论通过多弧离子镀技术在H13模具钢表面制备CrAlN薄膜,可以提高其表面性能,延长使用寿命。当氮氩比为8∶2时,在H13模具钢表面制备出的CrAlN薄膜性能最佳。

摘要： 为提高模具钢表面性能,延长模具钢使用寿命,采用多弧离子镀技术在H13模具钢表面制备TiAlCrN薄膜。采用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)等方法研究氮氩流量比对TiAlCrN薄膜的表面形貌、物相组织、硬度、结合力、高温抗氧化性能的影响。研究表明:随着氮氩比的增加,TiAlCrN薄膜表面大颗粒数量先增加后减少,硬度、结合力、高温抗氧化性能先增强后减弱;在氮氩比为8∶2时,TiAlCrN薄膜具有最优性能,氧化前的薄膜硬度达到最大值2700 HV_(0.5N),膜基结合力达到最大值26 N,高温抗氧化性能达到最优。

摘要： 为改善TC4钛合金(Ti-6A1-4V)表面力学性能和抗磨损性能,利用多弧离子镀技术在其表面沉积制备Cr层与CrAlN层交替(1、5和10个循环周期)沉积的Cr/CrAlN多层涂层。采用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、轮廓仪、洛氏压痕仪、显微硬度计、球盘摩擦磨损等对涂层的微观结构和性能进行研究。结果表明:Cr/CrAlN-1涂层的主要物相为固溶的(Al,Cr)N相,而Cr/CrAlN-5和Cr/CrAlN-10多层涂层的主要物相为固溶的(Al,Cr)N相和Cr相。随着循环周期的增加,(Al,Cr)N相的优先生长方向由(111)晶面转变为(200)晶面,同时涂层的晶粒尺寸减小。金属Cr层的加入和多层结构可以显著增加Cr/CrAlN多层涂层的膜-基结合强度。此外,Cr/CrAlN涂层显著提升了钛合金基体的硬度和耐磨性能,其中Cr/CrAlN-1的显微硬度(2465HK_(0.025))最高,而Cr/CrAlN-5的磨损率(1.52×10^(-6)mm^(3)·N^(-1)·m^(-1))最低,Cr/CrAlN多层涂层的磨损失效机理主要为氧化磨损。

摘要： 通过多弧离子镀沉积技术制备了TiN和TiVN涂层,对比了两种涂层在不同工况下的摩擦磨损性能和切削性能,并指出影响刀具涂层服役性能的主要因素。结果表明,V元素掺杂有效提高了TiN涂层的硬度和结合力、减小了TiN涂层的摩擦因数和低温下的磨损率,但V容易氧化的特性导致500°C及以上温度TiVN涂层产生较高的磨损率。切削测试表明,在麻花钻的主切削刃和横刃区域两种涂层发生明显的剥落,而在后刀面涂层未发生明显剥落,TiVN涂层较高的膜基结合强度和耐磨性能使得它对刀具的防护效果更佳;刀具涂层的服役性能与其耐磨性能和膜基结合强度有关,刀具的主切削刃和横刃区域对涂层的耐磨性能和膜基结合强度有着苛刻的要求,且切削刃尖端温度较高,对涂层的高温耐磨性能和膜基结合强度要求也高。

摘要： 利用研发的多弧离子镀设备在高速钢基材上制备CrN薄膜,研究偏压参数对CrN薄膜表面形貌和力学性能的影响。结果表明,在偏压参数幅值增加的过程中,薄膜表面大颗粒的数量和尺寸呈现先减小后增大的变化趋势,薄膜硬度和结合力均呈现先增大后减小的变化趋势。残余应力随着偏压参数幅值的增加而逐渐增大。

摘要： 目前,关于负偏压对电弧离子镀TiAlN薄膜耐腐蚀性能影响的研究较少,为此,采用电弧离子镀技术在M2高速钢上沉积TiAlN薄膜,分别采用扫描电镜(SEM)、 X射线衍射仪(XRD)、电化学实验等方法研究基体负偏压量对薄膜表面形貌、组织结构和耐腐蚀性的影响。结果表明:负偏压是影响电弧离子镀TiAlN薄膜表面形貌的一个重要工艺参数。适当的负偏压能有效改善表面薄膜形貌及致密性,降低表面大颗粒熔滴尺寸及数量。TiAl_(3)N薄膜主要相为AlTiN(111)、薄膜主要沿着(111)方向生长。增加负偏压会发生新反应,出现TiAl_(2)N(100)衍射峰。随着基体负偏压的增大,薄膜的显微硬度呈先增加后减小的趋势。当负偏压在150 V时,薄膜具有最大的硬度值,为2 725 HV。当负偏压工艺为150 V时,薄膜的相对腐蚀速率最小,耐腐蚀性最好。

摘要： Al2O3阻氚渗透涂层是解决国际热核实验堆(ITER)中氚增殖包层(TBM)技术难题的有效解决方法之一.本文采用多弧离子镀方法,通过改变不同的O2/Ar气流量比,在Si基体上制备Al2O3阻氚渗透涂层.随后采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)研究了涂层相结构及微观形貌,并用划痕仪评价了涂层结合强度.结合上述实验结果,本文详细分析了O2/Ar气流量比对涂层结构性能的影响行为及作用机理.

摘要： 采用多弧离子镀在硬质合金基底上制备TiN涂层,通过改变占空比获得不同TiN涂层试样,利用扫描电子显微镜、自动划痕仪、纳米压痕仪对涂层进行分析,讨论占空比对TiN涂层组织结构和力学性能的影响.结果表明:占空比增大,涂层表面大液滴减少,TiN表面变得平整;而占空比增加时涂层附着力先增大后减小,当占空比达到40％时涂层附着力最大;随着占空比的增加,TiN涂层的硬度先增加后减少,30％时硬度最大.

摘要： TiN涂层具有硬度高,耐磨损等优良特性,为了研究基体温度对TiN涂层形貌、相结构及其力学性能的影响,本文采用多弧离子镀技术制备了TiN涂层.研究结果表明:TiN涂层为金黄色,表面形貌及相结构受温度影响不明显,涂层表面有大颗粒存在,涂层为Ti、Ti2N和TiN三相共存结构.膜基结合强度随着温度的升高呈现先上升后下降的趋势,而涂层硬度随温度升高一直升高,300°C后变得缓慢.涂层在300°C时具有最优良的力学性能.

摘要： 四面体非晶碳(ta-C)薄膜具有高硬度和弹性模量、优异的耐磨性和抗蚀性、高热导率和电阻率以及良好的化学惰性等优异性质,已成为刀具用硬质合金表面的理想涂层材料.本文采用多弧离子镀技术在P(100)单晶抛光硅衬底和YG6硬质合金上制备ta-C薄膜,研究沉积时间(19、27、35、47min)对ta-C薄膜结构和性能的影响.利用表面轮廓仪对薄膜粗糙度进行测量,利用扫描电镜对薄膜表面、截面形貌进行表征及对薄膜厚度进行测量,利用划痕试验仪对薄膜的膜/基结合力进行测试,利用洛氏硬度计对薄膜脆性及结合力进行测试表征,采用拉曼光谱和XPS对薄膜sp3键含量进行标定.结果表明,随着薄膜厚度增加(0.5～1.4μm);表征sp3键含量的ID/IG值增加,sp3键的含量逐渐降低;硬质合金基体与ta-C薄膜之间的结合力降低,19min时,ta-C薄膜与基体具有最高的结合力60N;薄膜韧性逐渐降低(HF2～HF5);薄膜表面碳颗粒数量及尺寸逐渐增加,19min时薄膜具有最小的表面粗糙度0.13μm.随着ta-C薄膜厚度的增加,膜层内部应力逐渐增大,致薄膜与基体的结合力及韧性降低;sp3键的含量降低可能是部分亚稳态sp3键转变为稳态的sp2键.

摘要： 采用多弧离子镀和磁控溅射复合技术在304不锈钢基体表面制备了TiCN与TiN薄膜,着重研究了工艺参数中氮分压对TiCN薄膜表面形貌、粗糙度、沉积速率、物相结构、力学及耐磨性能的影响规律.结果表明:不同氮分压下所制备的TiCN薄膜表面平整、致密,氮分压对表面形貌影响不大;随着氮分压的升高,TiCN薄膜的表面组糙度先减后增,在0.4Pa时达到最小值为0.185μm,而沉积速率一直降低.TiCN薄膜主要由TiCN相组成,随氮分压的增大出现择优取向转变,且薄膜沿(111)晶面生长更甚;薄膜的显微硬度先增大后减小,在氮分压0.4Pa时为3008HV0.025,而膜基结合力呈线性上升趋势.TiCN薄膜的耐磨性优于TiN薄膜,且薄膜的平均摩擦系数随着氮分压的增加不断降低,抗摩擦磨损性能逐渐增强,在氮分压为0.4Pa时,薄膜平均摩擦系数与磨损率分别为0.335和5.53×10-6,相对具有更好的耐磨性.

摘要： 齿轮滚刀是常用的加工外啮合直齿和斜齿圆柱齿轮的刀具。采用多弧离子镀技术在M42滚刀和抛光Φ23圆片表面沉积A1CrN涂层.采用室温干式摩擦研究了涂层与40Cr结构钢间的摩擦行为.涂层后滚刀用桃木砂进行抛光处理.不同后处理的滚刀进行了实际现场的齿轮加工.研究结果表明:A170Cr30N涂层适合作为滚刀的表面涂层.抛光后处理可以迸一步明显地提高滚刀的表面光洁度和优化刃口形貌,与未抛光的滚刀相比,抛光处理可以提高滚刀寿命1倍.

摘要： 采用多弧离子镀工艺,以AlTi合金靶和Zr单质靶为组合,通过改变AlTi靶电流,在氮化硅陶瓷刀具表面制备了一组(Ti,Al,Zr)N涂层.分别采用扫描电镜(SEM)、纳米压痕和纳米划痕研究AlTi靶电流对(Ti,Al,Zr)N涂层形貌和结构、硬度和涂层/氮化硅陶瓷刀具基体结合力的影响.实验结果表明,随着涂层沉积过程中AlTi靶电流的增加,(Ti,Al,Zr)N涂层表面大颗粒数量先增加后减少;涂层厚度增加;涂层硬度和膜基结合力先升高后降低.最后,对涂层氮化硅陶瓷刀具进行高速干车削铸铁实验,研究AlTi靶电流对(Ti,Al,Zr)N涂层氮化硅陶瓷刀具切削性能、磨损机理和切削寿命的影响,评估涂层刀具切削性能.涂层氮化硅陶瓷刀具上在切削参数为Vc=300m/min,f=0.12 mm/r,ap=0.5 mm，干车削灰铸铁HT250时，靶电流较低时具后刀面主要以粘结磨损为主，而靶电流较高时其后刀面磨损为粘结磨损和磨料磨损的组合。

摘要： 本文应用多弧离子镀技术,在M2高速钢基体表面沉积了三种不同涂层结构的Cr-Al-N涂层,并使用箱式电阻炉测试其高温氧化行为.采用X射线衍射分析仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、电子天平等手段分别对样品物相结构、表面形貌、表面颗粒元素、氧化增重进行分析.结果表明相对于单层结构,梯度结构可以提高CrAlN涂层的抗氧化能力,而TiN中间层不利于CrAlN涂层的抗氧化性能.梯度结构中形成的Al的"内扩散"作用抑制了Ti、Fe元素的外扩散速度,从而提高了CrAlN涂层的高温抗氧化性能.

摘要： 本文采用了两种不同的处理工艺,利用多弧离子镀技术在ADC12压铸铝合金表面制备了CrN涂层.采用扫描电子显微镜(SEM)、显微硬度计、线性磨耗仪、划痕仪和电化学工作站分别测试了涂层的表面形貌、显微硬度、耐磨性、结合力和耐蚀性.结果表明:采用处理工艺B(表面硬化+PVD复合工艺)可以有效的提高PVD涂层质量,结合力由11N提升至39N,腐蚀电流密度由7.988 μA·cm-2降为3.796×10-1μA·cm-2.

摘要： 采用多弧离子镀技术,利用纯Ti靶及TiAl合金靶在SKH51高速钢基本上沉积三种不同Al含量的TiN/Ti1-xAlxN复合多层涂层,利用材料表面性能测试仪、显微硬度计、扫描电镜、X射线衍射仪等研究了Al含量及多层结构对涂层形貌、相结构、显微硬度、膜基结合力的影响.结果表明:TiN/Ti1-xAlxN复合多层涂层均为柱状晶结构,断口形貌表现为短纤维状撕裂,随着Al含量的升高,涂层中大颗粒数量增加,显微硬度升高,衍射峰右移,晶格常数减小;与相应成分的单层Ti1-xAlxN涂层相比,硬度均有少许的降低,但结合力有明显的提高.

摘要： 本发明涉及电弧离子镀膜技术领域，具体涉及一种离子镀旋转直线复合式引弧装置及离子镀膜装置，其中离子镀旋转直线复合式引弧装置包括驱动组件、引弧杆、引弧针，所述引弧针安装在引弧杆的一端，所述驱动组件可驱动引弧杆沿直线运动以及可驱动引弧杆旋转运动。本发明可使引弧针有效避开靶材离化的金属离子直接沉积,很大程度降低沉积于引弧针上的膜层厚度,同时也提高了引弧针的导电性，增大了放电引弧的稳定性。引弧针远离靶面，靶面前无遮挡，更有利于靶面沉积膜层。

摘要： 本发明提供一种真空阴极弧离子镀装置及控制弧斑刻蚀区域的方法，装置包括靶座系统、磁过滤系统、控制电路以及真空室，磁过滤系统包括磁过滤弯管和至少一组线圈；靶座系统包括靶材、控制弧斑沿着跑道型轨迹运动的靶磁场、稳弧线圈产生的稳弧磁场，这两种磁场共同形成该靶材表面的靶面磁场；控制电路包括控制线圈电流大小的线圈电流控制器，线圈电流控制器通过改变电流来改变磁过滤磁场与靶面磁场形成的叠加磁场，以控制靶材的刻蚀区域和刻蚀轨迹。本发明实现了弧斑运动的可控性，提高了靶材的利用率，尤其使大尺寸矩形靶镀膜设备可以有效得对小面积镀膜件进行镀膜，而不会形成靶材的浪费，且刻蚀区域的缩小，也能够使离子聚焦，沉积效率大大提高。

摘要： 本发明涉及电弧离子镀膜技术领域，具体涉及一种离子镀旋转直线复合式引弧装置及离子镀膜装置，其中离子镀旋转直线复合式引弧装置包括驱动组件、引弧杆、引弧针，所述引弧针安装在引弧杆的一端，所述驱动组件可驱动引弧杆沿直线运动以及可驱动引弧杆旋转运动。本发明可使引弧针有效避开靶材离化的金属离子直接沉积,很大程度降低沉积于引弧针上的膜层厚度,同时也提高了引弧针的导电性，增大了放电引弧的稳定性。引弧针远离靶面，靶面前无遮挡，更有利于靶面沉积膜层。

摘要： 本发明公开了一种多弧离子镀引弧装置，包括驱动组件和一个或多个引弧单元，所述引弧单元包括引弧针、阴极靶材和靶材电源；阴极靶材与靶材电源连接；引弧针的针尖朝向阴极靶材；驱动组件用于驱动引弧针的针尖接触或者远离阴极靶材。本发明的多弧离子镀引弧装置，可以使用多个引弧针，从而有效提高镀膜效率，并且当使用多个引弧针时，多个引弧针共用一个驱动组件，既节约了空间，又节约了成本，本发明的装置简单，操作方便。

摘要： 本发明涉及AR技术领域，具体涉及一种利用多弧离子镀和磁控溅射镀制备超硬仿生AR片的方法，它包括以下步骤：步骤1、对基片进行清洗干燥；步骤2、采用多弧离子镀，利用弧光放电时快速蒸发硅靶形成液滴，液滴在电场作用下沉积在基片表面，形成0.5‑3微米厚的硅纳米乳突；步骤3、磁控溅射镀硅光学膜，该光学膜的厚度300纳米以内，得到超硬仿生AR片，本发明利用多弧离子镀和磁控溅射镀相结合的方式，可以实现该种结构的仿生消反效果，同时可以实现大批量生产，并且成本低廉，还可以实现3D造型。

摘要： 本发明公开了一种多弧离子镀弧源伸缩装置，包括法兰，所述法兰前端壁体上设有端盖，所述端盖前端中心位置的壁体上设有磁铁调节杆，所述端盖前端在位于磁铁调节杆上方与下方位置的壁体上均设有接头，所述第一固定座前端在位于端盖两侧位置的壁体上均设有循环水管，所述端盖后端壁体上设有靶材，所述法兰前端在位于端盖上方位置的壁体上设有第一固定座。本发明所述的一种多弧离子镀弧源伸缩装置，涉及多弧离子镀设备技术领域，通过在密封轴前端壁体上设置的安装板便于整个机构的安装与使用。通过在安装板内设置的连接架与第二限位杆、螺杆的设置，便于将安装板固定在套杆内或者将安装板以及安装板固定在驱动块上。

摘要： 本发明公开了一种多弧离子镀引弧装置，包括驱动组件和一个或多个引弧单元，所述引弧单元包括引弧针、阴极靶材和靶材电源；阴极靶材与靶材电源连接；引弧针的针尖朝向阴极靶材；驱动组件用于驱动引弧针的针尖接触或者远离阴极靶材。本发明的多弧离子镀引弧装置，可以使用多个引弧针，从而有效提高镀膜效率，并且当使用多个引弧针时，多个引弧针共用一个驱动组件，既节约了空间，又节约了成本，本发明的装置简单，操作方便。

摘要： 本发明公开了一种用于多弧离子镀设备圆形平面多弧靶装置，靶座焊接在真空腔体上，密封绝缘垫安装在靶座上，靶连接法兰压住密封绝缘垫设置，连接螺丝绝缘套通过内六角螺丝固定安装在靶连接法兰的螺孔中，O型圈安装在靶连接法兰上，靶头绝缘垫安装在O型圈上，靶头装置安装在靶头绝缘垫上，靶头装置内部通过靶连接上压法兰固定有磁钢装置，靶材在真空侧通过螺丝固定在靶头装置上，屏蔽罩通过靶材装配在靶连接法兰上，靶头装置上还连接有外部接线柱，引弧装置安装在靶连接法兰上。本发明实现离子镀膜的最佳工艺，极大的提高生产效率，并提供一种气动控制式多弧靶引弧针，结构简单，引狐动作稳定、准确，密封可靠。

摘要： 本实用新型涉及一种多弧离子镀用转架和多弧离子镀膜设备。所述多弧离子镀用转架包括架体，所述架体包括上转盘、下转盘、连接上转盘和下转盘中心的主轴、和绕周向设置于上转盘和下转盘之间的多个自转轴，每一自转轴上设有用于夹持工件的夹具，所述转架还包括驱动主轴转动进而带动整个架体一起转动的公转驱动组件、驱动多个自转轴分别相对于上转盘和下转盘转动的自转驱动组件、和驱动整个架体上下往复移动的直线往复驱动组件。本实用新型的多弧离子镀用转架及采用该转架的多弧离子镀膜设备不仅通过公转加自转的方式解决水平方向上的均匀性问题，还通过转架在竖向上的上下往复运动解决竖直方向上的均匀性问题，从而提高工件成膜质量。

摘要： 本实用新型涉及一种多弧离子镀弧源装置，包括圆柱体靶材、引弧针、设置于靶材背面N极指向靶材的永磁铁、设置于靶材背面的轴线与所述靶材的轴线平行的励磁线圈，励磁线圈的轴线与所述靶材的轴线间距d以及励磁线圈的半径r满足d≤0.1R，0.5R≤r≤0.75R，其中R为靶材半径，本实用新型具有结构简单、维护方便、靶材利用率高的特点。