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李沛; 钟庆东;
上海大学省部共建高品质特殊钢冶金与制备国家重点实验室,上海200072;
PVD抗腐蚀 Al-O涂层 极化测试 Cu装饰;
机译:磁控溅射Al2O3陶瓷靶材在不同的射频功率和氩压下通过磁控溅射沉积的Al2O3薄膜的主要性能及其对p型c-Si晶片的钝化作用
机译:纳米粉末靶材射频磁控溅射沉积在PEN衬底上的Al掺杂ZnO薄膜的研究与优化
机译:使用10 nm厚缓冲层改善直流磁控溅射含Al掺杂的ZnO多晶薄膜的特性,该薄膜包含保留的原子。
机译:使用DC和RF磁控溅射对Al2O3基板沉积的Ni-Cr-Si薄膜电阻器的微观电气特性研究
机译:磁控溅射薄膜涂层材料特性及摩擦学性能研究
机译:外延Pd(111)/ Al2O3(0001)薄膜的超高真空直流磁控溅射沉积
机译:RF磁控溅射获得的真空退火Al掺杂ZnO薄膜的组成研究
机译:磁控溅射钽薄膜的原位相变研究
机译:磁控溅射装置,用于使用该装置的无机薄膜材料的磁通量配置(平衡型/非平衡型)可切换成膜方法,以及用于非磁性薄膜的双型磁控溅射装置和成膜方法成型B
机译:制备Al掺杂的ZnO薄膜的方法
机译:磁控溅射枪和磁控溅射薄膜沉积装置
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