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刘心宇; 江民红; 周秀娟; 成钧; 王仲民;
桂林电子科技大学信息材料科学与工程系,广西,桂林,541004;
中南大学,材料科学与工程学院,长沙,410083;
ZAO薄膜; 射频磁控溅射; 溅射时间; 退火; 光电性能;
机译:纳米粉末靶材射频磁控溅射沉积在PEN衬底上的Al掺杂ZnO薄膜的研究与优化
机译:射频磁控溅射在不同衬底温度下沉积的Al掺杂ZnO薄膜的表面和体电子性能之间的关系
机译:热退火对射频磁控溅射沉积Al掺杂ZnO薄膜结构,电学和力学性能的影响
机译:通过射频磁控溅射沉积的Al掺杂ZnO薄膜的显微照片和光学性质
机译:使用不平衡磁控溅射制造适用于薄膜晶体管的掺镓ZNO薄膜。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:在射频磁控溅射过程中通过调整直流偏置电压来增强al掺杂ZnO薄膜的电学性能
机译:等离子体诊断研究过程变量对射频磁控溅射过程中从(1-x)Li4siO4:(x)Li3pO4靶射出的原子和分子种类的影响。
机译:制备Al掺杂的ZnO薄膜的方法
机译:磁控溅射法掺杂金属的ZnO薄膜的方法
机译:ZnO薄膜结构和ZnO薄膜晶体管的制造方法,ZnO薄膜结构和ZnO薄膜晶体管
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