0.8—1微米分步重复投影光刻机研制

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• 来源
  《LSI制造与测试 》 |1996年第6期|7-11|共5页
• 作者

  吴耀才; 陈旭南;

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• 作者单位

  中国科学院光电技术研究所;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 光刻、掩膜 ;
• 关键词

  光刻机 ; 投影 ; 微米 ; 光电技术 ;