激光划痕法膜基界面的温度场及应力场分析

摘要

为了对膜基系统的温度分布和应力分布进行模拟研究,采用ANSYS有限元分析软件,对高斯移动激光加载条件下TiN薄膜的温度场和由温度场产生的应力场进行了稳态分析.研究结果表明,温度场随激光光源的移动而移动,温度场中温度最大点在激光光斑中心处,且激光光源移动方向后方的温度场有较大的迟滞现象.在膜基系统中产生的应力场主要集中在薄膜内部.温度场和应力场的研究对探讨膜基系统失效进程具有重要意义.