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杜林; 蒲石; 史永贵; 张进城; 郝跃;
西安电子科技大学宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室;
基片集成波导滤波器; 通孔; 深刻蚀; 显微结构;
机译:通过局部聚焦离子束注入和深反应离子刻蚀在硅基板上制备高纵横比的纳米通道
机译:大孔硅基深各向异性刻蚀
机译:黑色硅法-在轮廓控制下确定深硅沟槽刻蚀中基于氟的反应离子刻蚀参数设置的通用方法
机译:通过采用低侧壁粗糙度的深反应性离子刻蚀技术,逐步开发出锥孔刻蚀工艺,用于硅通孔应用
机译:在使用Langmuir探针和光发射光谱法的深反应离子刻蚀系统中,等离子体表征和刻蚀速率以及通孔侧壁角度相关。
机译:二氧化硅基牺牲模板的选择性刻蚀制备中孔烧结金属薄膜
机译:液滴喷射频率对聚(乙烯基苯酚)薄膜中喷墨刻蚀的微通孔尺寸的影响
机译:单自对准刻蚀工艺制备三维硅基光子晶体结构。
机译:通过深反应离子刻蚀制造微系统,包括例如:提供用于深反应离子刻蚀的刻蚀工具,进行包括刻蚀步骤的深离子刻蚀的多个重复处理间隔
机译:硅基太赫兹元件的多步深反应离子刻蚀制造工艺
机译:硅基TERAHERTZ组件的多步深反应离子刻蚀制备工艺
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