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脉冲多弧离子镀制备类金刚石薄膜的结构分析

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摘要

利用脉冲多弧离子镀技术在硅基底上沉积类金刚石薄膜.喇曼光谱和X射线衍射分析表明:类金刚石薄膜是无定形结构;利用扫描电镜发现:类金刚石薄膜表面不光滑,石墨颗粒的大小和密度随厚度增加而增加,但薄膜致密.

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来源
《西安工业大学学报》 |1999年第4期|265-268|共4页
作者
喻志农; 朱昌; 杭凌侠; 严一心; 孙鉴;
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作者单位

西安交通大学,电子物理与器件研究所,陕西,西安,710049;

西安工业学院;

西安工业学院;

西安工业学院;

西安交通大学,电子物理与器件研究所,陕西,西安,710049;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜的生长、结构和外延;
关键词
脉冲多弧离子镀; 类金刚石薄膜; 结构性能; 薄膜形貌;

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