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黄淑芳;
武汉化工学院物理系;
栅-阴击穿特性; 芯片; 耗尽层; 外延层; 台面腐蚀;
机译:Ni-FUSI栅电极的结晶相对HfSiON MOSFET的偏置温度不稳定性和栅介电击穿的影响
机译:后栅退火在非钝化AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管中的栅电流泄漏和击穿机理
机译:分析表面状态和碰撞电离对窄凹栅GaAs FET的击穿特性和栅滞现象的影响
机译:用多晶硅和金属栅电极确定0.8-1.2 nm EOT HfSiON栅介质击穿时间
机译:氮结合的氧化f栅介电薄膜和钛基金属栅电极用于双栅应用。
机译:质子辐照对常断型AlGaN / GaN栅嵌入式金属-绝缘体-半导体异质结构场效应晶体管随时间变化的介电击穿特性的影响
机译:非对称双栅MOSFET栅极电压和掺杂谱的子尺寸传输特性分析
机译:后栅等离子体和溅射工艺对金属栅CmOs集成电路辐射硬度的影响
机译:开关电路用于直流-直流转换器,具有击穿二极管和电容器,该击穿二极管和电容器串联连接在晶体管的电极和栅电极之间。绝缘栅双极晶体管
机译:具有嵌入式栅电极的GaN基高电子迁移率晶体管(HEMT),该栅电极具有第一凹槽部分和第二凹槽部分以改善漏极击穿电压
机译:MOSFET例如轻掺杂漏极MOSFET,例如存储电路,涉及在栅电极和沟道区域之间施加击穿电压以穿透栅介电材料
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