半绝缘InP的优化生长条件以及掩埋的1.55μm激光器

摘要

研究了低压ＭＯＣＶＤ下生长压力和Ｆｅ 源／Ｉｎ 源摩尔流量比对半绝缘ＩｎＰ电阻率的影响．得到了用ＬＰ－ＭＯＣＶＤ 生长掺Ｆｅ 半绝缘ＩｎＰ的优化生长条件．在优化生长条件下得到的Ｆｅ－ＩｎＰ的电阻率为２．０×１０８Ω·ｃｍ ，击穿电场４×１０４Ｖ／ｃｍ ．用半绝缘Ｆｅ－ＩｎＰ掩埋１．５５μｍ 多量子阱激光器，激光器的高频调制特性明显优于反向ｐｎ 结掩埋的激光器，３ｄＢ 调制带宽达４．８ＧＨｚ．