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脉冲激光沉积法合成Bi2Ti2O7介电薄膜及其光吸收特性

         

摘要

控制单脉冲能量为350mJ,脉冲频率为5Hz,控制合适的基底温度,利用脉冲激光沉积法制备出Bi2Ti2O7薄膜材料.结果发现,SiO2基底温度控制在500~600℃,均能获得纯的Bi2Ti2O7薄膜.其介电常数约18.2左右,随频率变化比较稳定,介电损耗约0.015左右,并且在紫外波段200~450nm有着较强的紫外吸收能力,有望在微电子器件中获得应用.

著录项

  • 来源
    《半导体学报》 |2005年第z1期|74-77|共4页
  • 作者单位

    清华大学材料系新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室;

    北京;

    100084 清华大学材料系新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室;

    北京;

    100084 清华大学材料系新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室;

    北京;

    100084 清华大学材料系新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室;

    北京;

    100084 清华大学材料系新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室;

    北京;

    100084 清华大学材料系新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室;

    北京;

    100084;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 光学性质;
  • 关键词

    Bi2Ti2O7; 脉冲激光沉积法; 介电性能; 光吸收;

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