パルスレーザー堆積法によるBi系ぺロブスカイト酸化物薄膜の結晶構造と電気的磁気的特性

摘要

SrTiO_3（STO）基板上にパルスレーザー堆積（Pulsed laser deposition：PLD）法により酸化物人工超格子、およびBiFeO_3（BFO）薄膜を作製した。超格子は各層7ユニットを14回繰り返した［7ユニットCaFeO_x（CFO）／7ユニットBFO］_14人工超格子を作製した。［CFO/BFO］//STO（110）の表面は、STO［001］に沿った短冊状のグレインが確認できた。［CFO/BFO］_14//STO（110）は、M-H曲線から弱強磁性を示すことがわかった。BFO//STO（110）薄膜は、STO［001］または［00-1］に傾いたmonoclinic構造を持つ2つのグレインで構成されていた。BFO//STO（100）薄膜は、プールフレンケル伝導に従うリーク電流特性を示した。RHEED振動からBFO／SrRuO_3//STO（100）薄膜は成長初期段階にlayer-by-layer成長していることがわかった。