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胡靖; 穆甫臣; 许铭真; 谭长华;
北京大学微电子所;
热载流子效应; 氧化层; 厚度效应; 场效应晶体管;
机译:AC / DC组合应力作用下热载流子引起的再氧化氮氧化物n-MOSFET退化的机理
机译:混合AC-DC应力下热载流子引起的再氧化氮氧化物n-MOSFET的退化
机译:在沟道热载流子/栅极引起的漏极泄漏交替应力作用下,具有高k /金属栅叠层的n-MOSFET的增强降解
机译:栅极厚度小于100nm的N-MOSFET的热载流子效应,热和氮化氧化物的厚度低至1.3nm
机译:蒙特卡洛研究了低功率深亚微米n-MOSFET中的热载流子退化和器件性能。
机译:经口内镜下肌切开术治疗食管运动障碍对食管肌层厚度的影响
机译:在开态和关态应力下alGaN / GaN高电子迁移率晶体管的退化。
机译:使n-MOSFET器件中的热载流子效应最小化的方法
机译:具有栅绝缘层的不同厚度的金属氧化物半导体场效应晶体管器件的形成方法,该不同厚度的层可以改善低电压金属氧化物半导体场效应晶体管器件和高电压金属氧化物半导体器件的性能
机译:为了减少热载流子效应而在硅/氧化物界面上引入具有碳离子的在硅上制造氧化物层的方法
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