掺杂对硅薄膜窗口材料生长的影响

摘要

研究了掺杂剂对 p型微晶硅窗口材料生长的影响 .实验发现 ,与 B(CH3) 3不同 ,B2 H6 作为微晶硅掺杂剂时 ,掺硼量对材料的晶化率和生长速率有重要影响 .在线等离子体发射光谱分析表明 :B2 H6 的掺入会使辉光光谱中Si H*等各种离子密度增强 ,而 B(CH3) 3作掺杂剂时 ,随 B(CH3) 3量的增加 ,Si H*峰值增加较少 ,而 H2 *和