机译:硅掺杂和阳离子空位形成对金属有机气相外延生长在AlN模板上生长的Al0.6Ga0.4N薄膜近带边缘发射的发光动力学的影响
Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials and Department of Applied Physics, Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba, Sendai 980-8577, Japan|c|;
机译:金属有机气相外延法生长AlN模板上的Al_(0.6)Ga_(0.4)N薄膜的Si掺杂和阳离子空位形成对发光带近边带发光动力学的影响
机译:通过金属有机气相外延生长的高AlN摩尔分数Al_xGa_(1-x)N多量子阱的阱层中的适当Si掺杂来减少阳离子空位浓度
机译:通过金属有机气相外延生长在r面蓝宝石和有图案的AlN模板上生长的a面AlN的微观结构
机译:金属有机气相外延生长高AlN摩尔分数AlxGa1-xN结构的时空分辨阴极发光研究
机译:金属有机气相外延生长的薄膜InMnSb多相半导体合金的相稳定性和铁磁性
机译:氢化物气相外延生长在AlN纳米图案蓝宝石模板上的AlGaN外延层的结构和应力特性
机译:氢化物气相外延在ALN / PSS模板上生长的GaN膜的性质