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杨伟毅;
华东工学院光电技术系;
类金刚石膜; α-C:H膜; 等离子体沉积;
机译:射频等离子体增强化学气相沉积法沉积氮改性类金刚石碳膜的表征
机译:射频等离子体增强化学气相沉积法沉积氮化硅和类金刚石碳膜的光学性能随沉积时间的变化
机译:氮等离子体后处理对射频等离子体增强化学气相沉积合成类金刚石碳膜的影响
机译:射频等离子体增强化学气相沉积合成的类金刚石膜上的基体效应
机译:射频感应耦合等离子体沉积的类金刚石碳膜的表征和优化显微硬度
机译:使用He / H2 / CH4 / N2气体混合物通过微波等离子体化学气相沉积法合成超光滑纳米结构金刚石膜
机译:射频电感耦合等离子体在金刚石状碳膜的化学气相沉积过程中的应用,用于改性沉积膜的性能
机译:等离子体源离子注入和常规离子束辅助沉积工艺沉积类金刚石碳涂层的合成与表征
机译:用于沉积金刚石和类金刚石薄膜的磁增强高密度等离子体化学气相沉积等离子体源
机译:磁增强低温高密度等离子体化学气相沉积用于沉积金刚石和类金刚石薄膜的等离子体源
机译:磁性增强的低温高密度等离子体化学气相沉积等离子体源,用于沉积金刚石和类金刚石薄膜
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