Department of Materials Engineering, Tatung University, Taipei 104, Taiwan;
Center of Measurement Standards, Industrial Technology Research Institute (ITRI), Hsinchu 300, Taiwan;
diamond-like carbon; substrate effect;
机译:氮等离子体后处理对射频等离子体增强化学气相沉积合成类金刚石碳膜的影响
机译:等离子体预处理和后处理对RF等离子体增强化学气相沉积合成的类金刚石碳膜的影响
机译:RF等离子体增强化学气相沉积法合成类金刚石碳膜的表面表征和纳米力学性能
机译:射频等离子体增强化学气相沉积合成的类金刚石膜上的基体效应
机译:通过等离子体辅助化学气相沉积制备的类金刚石碳膜的热降解和摩擦学行为。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:低温中性光束合成的氮掺杂金刚石状碳膜的结构和电化学性能增强化学气相沉积