机译:等离子体预处理和后处理对RF等离子体增强化学气相沉积合成的类金刚石碳膜的影响
Diamond-like carbon films; Plasma enhanced chemical vapor deposition; Plasma pre-treatment; Plasma post-treatment; AMORPHOUS-CARBON; SURFACE;
机译:等离子体预处理和后处理对RF等离子体增强化学气相沉积合成的类金刚石碳膜的影响
机译:RF等离子体增强化学气相沉积法合成类金刚石碳膜的表面表征和纳米力学性能
机译:表面氧对等离子体增强化学气相沉积合成碳膜的影响
机译:射频等离子体增强化学气相沉积合成的类金刚石膜上的基体效应
机译:通过等离子体辅助化学气相沉积制备的类金刚石碳膜的热降解和摩擦学行为。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:类金刚石碳薄膜的等离子体增强化学气相沉积和电学表征
机译:用电子束生成等离子体的等离子体增强化学气相沉积siOx薄膜