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机译:表面氧对等离子体增强化学气相沉积合成碳膜的影响
Harbin Inst Technol, Dept Chem, Harbin 150001, Peoples R China;
Harbin Inst Technol, Dept Mat Sci, Harbin 150001, Peoples R China;
Harbin Inst Technol, Dept Mat Sci, Harbin 150001, Peoples R China;
Harbin Inst Technol, Dept Mat Sci, Harbin 150001, Peoples R China;
Harbin Inst Technol, Dept Chem, Harbin 150001, Peoples R China;
Chemical vapor deposition; Oxidation; Microstructure; films;
机译:等离子体预处理和后处理对RF等离子体增强化学气相沉积合成的类金刚石碳膜的影响
机译:低温等离子体增强化学气相沉积合成柔性电致变色器件MoO_xC_y薄膜中氧的添加对电致变色性能的影响
机译:大气压等离子体增强化学气相沉积在低温下合成的氢化非晶碳基薄膜的硬度和表面粗糙度
机译:射频等离子体增强化学气相沉积合成的类金刚石膜上的基体效应
机译:通过等离子合成的金刚石和相关薄膜的场电子发射增强了化学气相沉积。
机译:N2:(N2 + CH4)比在低温等离子体增强化学气相沉积法生长疏水纳米结构氢化氮化碳薄膜中的作用研究
机译:通过等离子体增强化学气相沉积和等离子体浸没离子注入和沉积获得的非晶态碳质薄膜的光学,机械和表面特性