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氩离子注入单晶硅表面的微观结构和微观力学性能研究

         

摘要

通过离子注入技术对单晶硅表面进行氩离子注入处理,利用纳米压痕仪及其附件研究了单晶硅表面在离子注入前、后的微观力学性能和变形机理,并用透射电子显微镜研究了改性层的微观结构.研究结果表明:一定剂量的氩离子注入使单晶硅表面的断裂韧性得到改善,提高了其在纳米划痕过程中的失效负荷.原因是氩离子的注入使单晶硅表面形成了硅的微晶态与非晶态共存的混合态结构的改性层,改善了单晶硅的微观力学性能.关词:单晶硅;氩离子注入;纳米划痕;断裂韧性

著录项

  • 来源
    《无机材料学报》 |2005年第3期|759-763|共5页
  • 作者单位

    中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室,兰州,730000;

    河南大学特种功能材料重点实验室,开封,475001;

    中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室,兰州,730000;

    中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室,兰州,730000;

    中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室,兰州,730000;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 陶瓷工业;
  • 关键词

    单晶硅; 氩离子注入; 纳米划痕; 断裂韧性;

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