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张素英; 李斌; 谢平; 刘定权;
中国科学院上海技术物理研究所,上海,200083;
抛光; Si基板; Pb_(1-x)Ge_xTe薄膜; 沉积速率; 光学常数;
机译:电子束蒸发PB_(1-X)GE_XTE薄膜中的组成一致性,相关性和高压多态性
机译:液体传递气相沉积制备的(Pb_(1-x)Ba_x)TiO_3薄膜:工艺参数对成膜和电学性能的影响
机译:(La_(1-x)Sr_x)MnO_3和(La_(1-x)Sr_x)CoO_3缓冲材料的特性及其对(Pb_(1-x)Sr_x)TiO_3薄膜铁电性能的影响
机译:利用Pb_(1-x)Ge_xTe的折射率与温度的关系来改善红外薄膜干涉滤光片的低温性能
机译:MeV离子引起的非晶硅基合金状态密度变化:对薄膜和太阳能电池的光电性能的影响。
机译:光诱导降解对性能的影响结薄膜硅基光电化学水分解技术设备
机译:拓扑结晶绝缘子的纳米材料, pb_(1-x)sn_(x)Te和pb_(1-x)sn_(x)se
机译:薄膜Ga(x)In(1-x)as和Gaas(x)sb(1-x)合金薄膜的制备与性能。
机译:包含特定成分的CMP(化学机械抛光)成分的化学锗元素制造工艺,该工艺包括元素锗和/或Si 1-x sub> Ge x sub>材料的化学机械抛光有机化合物
机译:Ba(1-x)SRxTiyO3薄膜的形成,能够在低温下反复进行涂层和煅烧的组合物以及Ba(1-x)SRxTiyO3薄膜的形成方法
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