磁控溅射SmFe2 GMF的工艺及膜性能研究

彭俊华; 周白杨; 邓光华; 王平; 周军

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磁控溅射SmFe2 GMF的工艺及膜性能研究

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采用正交试验方法研究了磁控溅射的工艺因素:溅射功率、溅射气压、基片到靶材的距离等对SmFe2超磁致伸缩薄膜制备的影响;用SEM能谱仪研究了获得的SmFe2薄膜的成分;用小角度X射线掠射法研究了获得的SmFe2薄膜的结构;得到了磁控溅射制备SmFe2薄膜的优选工艺条件;并测量了该工艺条件下SmFe2 GMF的磁致伸缩系数λ.

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来源
《福州大学学报（自然科学版）》 |2003年第6期|690-694|共5页
作者
彭俊华; 周白杨; 邓光华; 王平; 周军;
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作者单位

福州大学材料科学与工程学院,福建,福州,350002;

福州大学材料科学与工程学院,福建,福州,350002;

福州大学材料科学与工程学院,福建,福州,350002;

福州大学材料科学与工程学院,福建,福州,350002;

福州大学材料科学与工程学院,福建,福州,350002;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类磁性材料、铁磁材料;
关键词
磁控溅射; SmFe2; 功能薄膜; 磁致伸缩;

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