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郑晓娟; 王娟; 李善锋; 张庆瑜;
大连理工大学,三束材料改性国家重点实验室,辽宁,大连,116024;
氮化铝; 磁控溅射; 表面形貌; 结晶特性;
机译:AlN缓冲层厚度对R平面蓝宝石基板上生长的10-PRRS厚的A平面ALN薄膜结晶和表面形态的影响
机译:纳米级表面形貌对Si(111)上3C-AlN薄膜相稳定性的影响
机译:在(Mn,Zn)Fe_2O_4衬底上生长的AlN薄膜的结构特性对生长温度的依赖性
机译:两步生长序列脉冲激光沉积制备的外延(Sr,Ba)Nb_2O_6薄膜的结晶度和表面形貌
机译:温度对水,带电和不带电溶质在聚合物薄膜复合纳米过滤膜上的传输的影响:对孔传输机制和电动特性的研究。
机译:溅射AlN:Er薄膜的基底温度相关特性用于Al / AlN多层涂层健康的原位发光传感
机译:alN薄膜厚度对深紫外光电子器件的alN /碳纳米管壳/核纳米结构的光致发光特性的影响
机译:表面形貌对厚膜溅射薄膜结构生长的影响
机译:多层AlN / Co / AlN结构的纳米薄膜及其使用的磁随机存取存储器
机译:用于沉积压电薄膜的ALN ALN方法,该方法是ALN的压电薄膜
机译:改善(GA,AL,In,B)N薄膜和生长在非极性或半极性(GA,AL,IN,B)N衬底上的薄膜和表面形貌的方法
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