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沈阳; 王贵学; 张勤; 葛淑萍; 唐朝君; 俞青松;
重庆大学,生物工程学院,应用生物技术中心,重庆,400030;
美国密苏里大学,表面科学与等离子体技术中心,密苏里,65211;
等离子体沉积SiOx:H纳米膜层; 医用NiTi合金; 表面改性;
机译:超声纳米晶表面改性诱导NiTi合金表面非晶化以改善机械性能
机译:等离子体电解沉积医用NiTi合金上Al2O3和Al2O3-ZrO2复合涂层的组织与性能
机译:纳米晶CdSe与非晶SiOx界面缺陷态的实验研究
机译:硼掺杂对同轴电弧等离子体沉积沉积在硬质合金衬底上的超纳米晶金刚石/非晶碳复合膜力学性能的影响
机译:用微波ECR等离子体反应器沉积氢化非晶碳膜的膜性能和沉积过程的研究。
机译:脉冲等离子体化学气相沉积法制备纳米多孔非晶碳化硼薄膜的摩擦学和热稳定性研究
机译:用电子束生成等离子体的等离子体增强化学气相沉积siOx薄膜
机译:利用等离子体沉积技术连续沉积纳米晶硅薄膜和多层绝缘层,非易失性存储器件及其形成方法的纳米晶硅层
机译:等离子体化学气相沉积法处理纳米金刚石/非晶碳复合膜的方法
机译:利用纳米晶硅膜结构的等离子体沉积技术,形成方法,具有纳米晶硅膜结构的非易失性存储器件及其形成方法
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