用CF4等离子体制备无水胶印版材斥墨层

摘要

采用射频等离子体化学气相沉积设备,以CF4为反应气体,进行了无水胶印版材斥墨层制备的实验.研究了不同等离子体参数(功率、气压和时间)对聚合薄膜性能的影响,并通过接触角、红外光谱、扫描电子显微镜对薄膜表面结构和性能的表征,对等离子体工艺进行优化,得到了表面疏水性能良好的低表面能薄膜.推墨实验结果表明,所聚合的薄膜基本达到斥墨层的要求,用含氟等离子体技术制备无水胶印版材斥墨层的技术路线是可行的.