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包强; 刘卫国; 蔡长龙; 周顺; 陈智利; 惠迎雪; 姬娇;
西安工业大学光电微系统研究所;
陕西西安710032;
离子束刻蚀; 离子束参数; 刻蚀速率; 表面粗糙度;
机译:电感耦合等离子体反应离子刻蚀功率对蓝宝石衬底刻蚀速率和表面粗糙度的影响
机译:基于Cl_2 / Ar的电感耦合等离子体刻蚀中的GaN刻蚀速率和表面粗糙度演变
机译:不锈钢化学刻蚀中刻蚀速率和表面粗糙度的研究
机译:异丙醇(IPA)对KOH溶液中刻蚀硅的刻蚀速率和表面粗糙度的影响
机译:工艺参数对直接金属激光烧结金属表面粗糙度和孔隙率的影响
机译:氢氧化四甲铵/异丙醇湿法刻蚀对AFM光刻制备的硅纳米线的几何形状和表面粗糙度的影响
机译:环氧光刻胶反应离子刻蚀的刻蚀速率优化
机译:污水入渗系统施胶综合加载速率的确定。
机译:通过最小化刻蚀速率负载的影响来进行均匀刻蚀的机制
机译:等离子刻蚀工艺,在不同的径向气体注入区域中使用具有不同刻蚀速率和聚合物沉积速率的聚合刻蚀气体进行时间调制
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