ZnO薄膜的物理性质与制备方法研究

摘要

ZnO为Ⅱ-Ⅵ族半导体材料,是一种极具潜力的新型功能材料.给出了ZnO薄膜的主要物理性能,并对制备方法作了比较详尽的介绍,包括激光脉冲沉积法、磁控溅射法、金属有机物化学气相沉积法、溶胶凝胶法、喷雾热解法、分子束外延法、原子层外延生长法.