大豆冠层光合有效辐射、叶面积指数及产量对种植密度的响应

摘要

以大豆品种垦丰16为材料,设置20万、30万、40万株/hm23个种植密度,使用光合有效辐射记录仪,连续测定冠层光合有效辐射,利用大田冠层切片法测定叶面积指数及产量层次分布,较系统地研究种植密度对大豆冠层光合有效辐射、叶面积指数及产量的影响.结果表明:(1)大豆冠层中部和基部晴天光合有效辐射日变化与冠层上方太阳入射光合有效辐射变化规律一致,呈单峰曲线变化;靠近中午时段,冠层中部光合有效辐射明显高于基部,早晨和傍晚差异较小.(2)大豆冠层叶面积指数受种植密度影响显著,随着种植密度增加叶面积指数增大,在R1至R6时期呈先增后降的单峰曲线变化趋势,在R5时期叶面积指数达到最大值;叶面积指数主要集中在冠层上部,并且随着大豆生长发育的推进,冠层上部叶面积指数所占比例逐渐增大,而下部叶面积指数所占比例则逐渐减小.(3)本试验3种种植密度(20万、30万、40万株/hm2)中,以30万株/hm2的产量最高.