首页> 中文会议>第十四届全国玉米栽培学术研讨会 >种植密度对玉米形态、冠层结构及光合有效辐射分布的影响

种植密度对玉米形态、冠层结构及光合有效辐射分布的影响

摘要

背景:增加种植密度是提高玉米产量的重要措施之一.但种植密度过高会导致玉米冠层结构发生明显变化,叶片相互遮荫,加剧植株间对光截获的竞争,群体光合生产能力受到影响.本文通过两年大田试验研究不同密度条件下,玉米植株形态,冠层结构对冠层光分布的影响.方法:试验以较耐密性品种中单909、中等耐密性品种郑单958和本地推广品种新玉41为材料.2013年设置3个种植密度,分别为4.5、7.5、和10.5株/n12,2014年设置5个种植密度分别为4.5、6.75、9.0、11.25和13.5株/m2。于吐丝期和灌浆期测定玉米的植株形态和叶面积指数,采用空间网格法测定冠层内部光合有效辐射时空分布特征。结果:与低密度处理(4.5株/m2)相比,高密度处理(10.5株/1112以上)条件下玉米的株高增加28-3lcm,穗位高增加21-42cm,穗位系数增加5-12%,穗位高较株高对密度的变化更为敏感。结论:密植条件下耐密品种植株可通过调节自身形态来适应环境,主要表现为叶长不变、而叶片变窄,叶夹角变小,叶向值变大,从而使冠层中下部叶片接受更多光辐射,保证群体有较高的光合生产能力。

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