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光刻工艺:微电子技术的关键

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微电子技术是衡量一个国家电子工业水平的标志之一,它的发展极大地影响着科学技术的各个领域。现在,这一技术的发展已进入超大规模集成电路研制的阶段,要求在每个芯片上集成10亿个元件,图形线条宽度在0.35μm以下。集成电路主要依靠精细加工技术,而

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来源
《国际学术动态》 |1999年第5期|P.76-77|共2页
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正文语种 chi
中图分类光刻、掩膜 ;
关键词
微电子技术 ; 光刻工艺 ; 超大规模集成电路 ; 加工技术 ; 线条宽度; 科学技术; 发展极 ; 电子工业 ; 聚合物 ; 激光刻蚀 ;

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