2008纳米压印光刻国际学术会议

摘要

2008年9月26～30日，我参加Obducat AB组织的纳米压印光刻学术研讨会。纳米压印光刻（Nanoimprint Lithography，NIL）是一种全新的纳米图形复制方法，目前压印的最小特征尺寸可以达到5nm，NIL较之现行的投影光刻和其他下一代光刻技术，具有高分辨率、超低成本（国际权威机构评估同等制作水平的NIL比传统光学投影光刻至少低一个数量级）和高生产率等特点，