用平面磁控溅射低温生长C轴择优取向的AIN薄膜

摘要

本文介绍了用 x-射线衍射仪、扫描电镜和透射电镜来分析用直流平面磁控溅射法在载波片上生长的 AIN 薄膜的结构,结果表明 AIN 薄膜的(002)晶面与基片表面平行,迴摆曲线分析得出标准偏差σ≈0.7°,俄歇谱分析结果表明制得的 AIN 薄膜是高纯的。这种方法适于制取 C轴高度择优取向 AIN 薄膜。