对向靶溅射参数对CoCr膜性质的影响

姜恩永; 单慧波; 张西祥; 张丙辰

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对向靶溅射参数对CoCr膜性质的影响

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本文系统地研究了对向靶溅射参数对垂直磁记录介质 CoCr 膜结构和磁性的影响。一、引言近年来,随着垂直磁记录介质研究的发展,关于二极溅射、磁控溅射和射频溅射的溅射条件对 CoCr 膜性质的影响已有许多研究,但新型对向靶溅射仪溅射条件对 CoCr 膜性质的影响还不甚清楚。对向靶溅射中影响 CoCr 膜性质的因素很多。通过实验研究,我们发现氩气压力 PAr,溅射电流 Is,基板温度 Ts和基板负偏

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来源
《信息记录材料》 |1989年第1期|P.14-16|共3页
作者
姜恩永; 单慧波; 张西祥; 张丙辰;
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作者单位

天津大学物理系;

天津大学物理系;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类磁性记录材料工业;
关键词
溅射现象; CoCr; 垂直磁记录; 射频溅射; 负偏压; 基板; 膜结构; 原子数; 取向度; 氢气压力;

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