机译:通过射频磁控溅射使用单一靶材进行无硒化制备的Cu(In,Ga)Se2薄膜的表征
机译:射频磁控溅射一步沉积Cu(In_(1-x)Al_x)Se2薄膜
机译:射频磁控溅射一步沉积Cu(In_(1-x)Al_x)Se2薄膜
机译:从单个靶溅射而没有额外硒化的Cu(In,Ga)Se2薄膜和器件的表征
机译:溶剂热,声化学和溅射沉积法研究形成Cu(In,Ga)Se2的结构和形态。
机译:磁控溅射高熵膜的生长机理及沉积参数对结构和性能的影响
机译:用Cu(In,Ga)Se2四元靶溅射制备Cu(In,Ga)Se2薄膜