248 nm高反膜抗激光损伤性能

刘凤娟; 周曙; 秦娟娟; 邵景珍; 方晓东

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248 nm高反膜抗激光损伤性能

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用电子束蒸发法在熔融石英基底上沉积了适用于248 nm的HfO2/SiO2高反膜,为提高其抗激光损伤能力,设计并制备了两种保护层,一种是在常规高反膜系的基础上镀制二分之一波长厚度的SiO2保护层,另一种是用Al2O3/MgF2做保护层.测试了3种高反膜样品的激光损伤情况,通过损伤形貌的变化分析了两种保护层使抗激光损伤能力提高的原因以及存在的问题.

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来源
《强激光与粒子束》 |2014年第8期|77-80|共4页
作者
刘凤娟; 周曙; 秦娟娟; 邵景珍; 方晓东;
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作者单位

中国科学院安徽光学精密机械研究所,安徽省光子器件与材料重点实验室,合肥230031;

中国科学院安徽光学精密机械研究所,安徽省光子器件与材料重点实验室,合肥230031;

中国科学院安徽光学精密机械研究所,安徽省光子器件与材料重点实验室,合肥230031;

中国科学院安徽光学精密机械研究所,安徽省光子器件与材料重点实验室,合肥230031;

中国科学院安徽光学精密机械研究所,安徽省光子器件与材料重点实验室,合肥230031;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜的性质;
关键词
248 nm KrF准分子激光器; 高反膜; 激光损伤; 保护层;

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