半導体プロセス用20nmフィルターの性能：20nm領域の除粒子性能評価方法と最先端フィルターの実力紹介

摘要

最先端の半導体デバイスを製造する上で、ウエーハ表面からの粒子除去は必須であり、その要求は年々厳しくなっている。 本稿では、最先端フィルターの性能を紹介すると共に、その評価方法についての取り組みを併せて紹介する。