可用化学气相沉积方法来低压沉积立方氮化硼（c—BN）吗？

摘要

自从1982年发现金刚石低压沉积方法以来，人们寻求一种用于c-BN合成的类似方法变得尤为重要。近年来，许多研究者们取得了很大的成功，但是，其中许多人在分析BN涂层的特征方面的工作并不理想。然而，由S.Matsumot和W.Zhang撰写的新论文阐述了使用直流等离子体喷涂的c-BN沉积方法和利用各种分析方法进行的特征描述。为了研究是否可以用一种纯化学气相沉积方法来沉积c-BN这个问题，我们用一个简单的无等离子体活化装置的CVD反应器做了实验。沉积了各种BN涂层并对其进行了特征描述。X－射线衍射、IR－光谱分光仪和SIMS表明沉积了含有c-BN的BN涂层。然而，到目前为止，用TEM方法仍不能最终证实c-BN晶体的存在。