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邱东江; 郝天亮; 石成儒;
浙江大学西溪校区中心实验室;
PVD; CVD; 氮化硼薄膜; 低压气相沉积; 薄膜; 镀膜;
机译:物理气相沉积制备低应力立方氮化硼薄膜
机译:低压气相沉积的立方氮化硼薄膜的拉曼散射
机译:等离子体压缩化学气相沉积制备立方晶氮化硼薄膜中残余压缩应力引起的六方氮化硼红外吸收频移
机译:A-C的低摩擦特性:H:通过离子气相沉积制备的Si膜
机译:具有衬底偏置的超声等离子体喷射化学气相沉积系统中的立方氮化硼膜沉积和过程诊断。
机译:电镀法制备立方氮化硼晶粒表面镍刺的制备及表征
机译:离子束辅助气相沉积法模拟沉积在弯曲基板上的立方氮化硼膜厚度分布的方法
机译:离子辅助脉冲激光沉积法制备立方氮化硼薄膜的成核与生长
机译:低介电常数六方氮化硼膜,层状介电膜及其制备方法和等离子体化学汽相淀积装置
机译:低介电常数层介电薄膜的六方氮化硼膜及其制备方法和等离子体化学汽相淀积装置
机译:化学气相沉积膜的组成和制备低介电常数膜的方法
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