PCVD方法沉积TiN的放电光谱研究

摘要

运用发射光谱对等离子体化学气相沉积（ＰＣＶＤ）在钢基片上沉积ＴｉＮ的研究表明：放电气氛中存在多种类型的粒子，涂层的生长直接依赖于Ｔｉ＾＋的浓度；而气相ＴｉＮ的出现将导致产生鳞片状，疏松的涂层，降低ＴｉＮ涂层的硬度。